真空爐爐溫控制系統主要由可控硅觸發(fā)勵磁裝置、單片機模糊控制器、熱電偶傳感器、磁性調壓器和記錄儀等構成，這些與被控對象（真空加熱室內鉬絲加熱器）共同構成直接數字控制（DDC）系統，整個控制構成了一個閉環(huán)微調系統。

爐恒溫區(qū)內裝有測溫熱電偶，前端蓋配有觀察孔，后端蓋帶微調屏，加熱室體上，側面均開有通風孔，冷卻工件時起導流作用。加熱室由鉬制材料、不銹鋼、陶瓷及硅酸鋁纖維氈等構成，加熱器由多股鉬絲捆成一束構成并沿爐體軸線方向及垂直方向均勻分布。

真空爐單片機根據設定工藝曲線與檢測信號比較求得偏差后，由模糊控制算法進行模糊推理，然后發(fā)出控制信號，通過可控硅觸發(fā)裝置控制可控硅的導通角，從而控制其輸出電壓，此交流可調電壓再經二極管整流變?yōu)橹绷麟妷簩Υ判哉{壓器進行勵磁控制，以控制磁性調壓器的輸出功率，功率連續(xù)可調，采用電阻加熱，達到控制溫度的目的。